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本網(wǎng)訊（物理與材料學(xué)院）近日，南昌大學(xué)物理與材料學(xué)院涂少波副教授及其合作者的最新研究成果以“Suppressing Dielectric Loss in MXene/Polymer Nanocomposites through Interfacial Interactions”（通過(guò)界面作用降低聚合物/MXene復(fù)合材料介電損耗）為題，在國(guó)際權(quán)威期刊ACS Nano上在線(xiàn)發(fā)表。

該成果以南昌大學(xué)為第一單位和通訊單位，涂少波副教授為第一作者和通訊聯(lián)系人，物理與材料學(xué)院2021級(jí)碩士生邱隆國(guó)和阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)（KAUST）博士生劉陳為共同第一作者，KAUST張西祥教授和Husam N. Alshareef教授為共同通訊作者。該課題得到國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目（NSFC 52203092），國(guó)家留學(xué)基金委（CSC）以及KAUST CRG科研項(xiàng)目支持。該論文上線(xiàn)發(fā)表后第一時(shí)間被eScience（科學(xué)在線(xiàn)）報(bào)導(dǎo)推薦。

構(gòu)建兼具低介電損耗和高介電常數(shù)的復(fù)合材料是制備高能量密度電容這一細(xì)分領(lǐng)域的關(guān)鍵課題。利用增強(qiáng)相和聚合物基體的界面相互作用提升兩相相容性，限制高分子鏈和副官能團(tuán)在外電場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)，被認(rèn)為是降低介電損耗和提升抗電強(qiáng)度的有效技術(shù)路徑。南昌大學(xué)研究團(tuán)隊(duì)系統(tǒng)研究了聚合物基復(fù)合材料兩相界面相互作用機(jī)制（ACS nano 2018, 12, 3369; ACS Appl. Mater. Interfaces 2019, 11, 27358; Applied Physics Letters 2019, 114, 232903），首次采用Lewis酸刻蝕制備具有致密表面官能團(tuán)的Ti₃C₂T_x MXene，利用-O, -Cl電負(fù)性表面官能團(tuán)與高分子鏈C-H基團(tuán)形成氫鍵，提升強(qiáng)化相與聚合物基體的界面相容性。該研究工作表明，利用強(qiáng)界面作用誘導(dǎo)高分子鏈在兩相界面處進(jìn)行重排構(gòu)成致密的鈍化層，能夠有效降低漏導(dǎo)電流和空間極化引起的介電損耗。

涂少波副教授于2021年加入南昌大學(xué)，以通訊作者/第一作者在Advanced Materials, Angewandte Chemie, ACS Nano, Advanced Functional Materials, Nano Energy等期刊上發(fā)表SCI學(xué)術(shù)論文10余篇。

全文鏈接：https://doi.org/10.1021/acsnano.4c00475

編    輯：涂金鳳

責(zé)任編輯：許  航